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22.12.2017 00:00

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10.11.2016 00:00

Simulation von Anlagenkonfiguration für den modernen Maschinenbau

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08.08.2016 00:00

Konzeptionierung & Bau – eines „Single Wafer Spin Dryer“

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Artikel

23. August 2015 00:00
Kategorie: Allgemein, Konstruktion

Nassprozessbank zum manuellen Entwickeln von Fotoresist auf Wafern und Reinigung von Fotomasken

Der Kunde arbeitet und forscht auf dem Gebiet der Smart Systems Integration unter Nutzung von Mikro- und Nanotechnologien. Für die Erforschung, Entwicklung und Anwendung von neuen Funktionsprinzipien, Prozessen und Devices wurde diese Anlage entwickelt. Die notwendigen Bearbeitungschritte beinhalten die Entwicklung, Spülung und Trocknung.

Die entwickelte Nassprozessbank dient gemäß den Vorgaben zum Entwickeln von Fotolackmasken auf 4“, 6“ und 8“-Wafern sowie der Aceton-Reinigung von entsprechenden Anlagenteilen.

Der Korpus der Nassprozessbank besteht aus verschweißten PP-Plattenmaterial in Weiß. Die verschiebbaren Türen im unteren Wartungsbereich/Lagerbereich der Anlage sind transparent ausgeführt, um Leckagen rechtzeitig und die gelagerten Medien von außen erkennen zu können.

Auf Arbeitshöhe befindet sich eine perforierte Arbeitsfläche zur Aufnahme der Prozessbecken, z.B. einem Spin-Rinse-Dryer sowie einer Abstellmöglichkeit für bis zu zwei 8“ Wafer-Carrier.
Sowohl die perforierte Arbeitsplatte, als auch die Auffangwanne und der Lagerbereich werden über die kundenseitige vorhandene Prozessabluft permanent abgesaugt.

Kontakt:

PAS Ing Ingenieur-Gesellschaft mbH
Mareen Pretzel
Mühlsteig 2
90579 Langenzenn
Telefon/phone: +49 (0)9101 / 90 220 0
Telefax/fax: +49 (0)9101 / 90 220 100
E-Mail: mareen.pretzel@pas-ing.com
Internet: www.pas-ing.com


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